Rainbow設備是Lam傳統(tǒng)的單腔體型刻蝕設備，刻蝕線寬≥0.5微米；主要用于8英寸及以下晶圓的氧化硅、氮化硅、多晶硅、硅及金屬材料的刻蝕。Rainbow設備占地面積小、設備集成度高，適用于規(guī)模化生產(chǎn)。同時，設備配備強大的射頻系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)，可實現(xiàn)多種工藝的兼容開發(fā)。Rainbow系列設備可選配靜電吸附、Envision系統(tǒng)等，可根據(jù)不同的工藝要求選擇適用的配置；設備市場保有量大，備件渠道完善。

設備配置：

Description and Key Features:

Currently configured for 200mm wafer sizes MFG Date: 1993

Last PM: 11/11/2016

Install Type: Thru-the-wall (TTW)

Status Lamp

System software (App): Envision ver1.5.1

SECS I Interface

Cassette Interface: (2) Hine 38F indexers Electrostatic Chuck (ESC)

Endpoint Detection: Monochromator 405nm / 520nm Turbo: Seiko Seiki STP H200C

RF Match Type: LAM

On-board RF Generators: No

RF Generator: ENI OEM-650A

RF Hours: 402056

Remote RF Cart: No

ATM Passivation Module: No

Plasma LLK (PLL): No

High Conductance Manifold: No

Gas Box:

Remote gas Box: No

Orbitally welded GB: Yes

Backside cooling MFC: Unit 1250A

Gases:

#1: N2, 200 sccm, Unit 1200A

#2: CHF3, 50 sccm, Unit 1200A

#3: N2, 300 sccm, Aera

#4: N2, 500 sccm, Unit UFC 1660

#5: CF4, 150 sccm, Unit 1200A

#6: SF6, 150 sccm, Unit 1200A

#7: He, 1 slm, Unit UFC 1660

#8: O2, 200 sccm, Unit UFC 1660

Pumps:

Heated pumping manifolds: No

Pump controller: iQ Series Entrance /: No

Exit: Edwards iQDP-40: No

Main: Edwards iQDP-80: No

Chiller(s): (2) SMC HRS018-WN-20-M: No

On-board AC Distribution type: Fused

Power requirements: 208VAC, 3-Phase, 5-Wire

應用領域
6英寸、8英寸傳統(tǒng)硅基半導體產(chǎn)線

升級后應用領域
4英寸、6英寸碳化硅、氮化鎵、砷化鎵等工藝制程

升級后產(chǎn)品優(yōu)勢
· 可選配Envision操作系統(tǒng)，提供更便捷的操作，更強的數(shù)據(jù)記錄及數(shù)據(jù)通信
· 可定制8路MFC，兼容多種研發(fā)用刻蝕工藝
· 升級傳送及腔體套件，匹配透明片、薄片的傳送及配套工藝
· 可定制升級射頻系統(tǒng)
· 可定制高精度偏壓射頻，實現(xiàn)GaN、GaAs等材料的低損傷刻蝕
· 可定制真空系統(tǒng)升級，增加分子泵及升級壓力穩(wěn)定系統(tǒng)，配合定制化的RF系統(tǒng)，滿足特殊工藝選擇比、深寬比及更小線寬的需求
· 提供多種新工藝開發(fā)及解決方案
· 軟件具有安全方便的權限管理、人性化的操作界面和完善的日志記錄功能，支持工廠自動化